Технології для виробництва 7-нанометрових процесорів довелося збирати буквально з миру по нитці. IBM заручилася підтримкою GlobalFoundries, Samsung, STMicroelectronics а також ряду постачальників спеціалізованого обладнання. Вперше канали транзисторів використовують не чистий кремній, а комбінацію кремнію і германію. Крім того, вперше продемонстрована потенційно коммерціалізіруемая технологія виробництва процесорів з використанням фотолітографії в глибокому ультрафіолеті (extreme ultraviolet lithography, EUV).
За твердженням представників IBM, інженерам корпорації вдалося досягти збільшення щільності розміщення елементів по відношенню до самого передового сьогодні 10-нм технологічному процесу майже на 50%. Крок між елементами на такому чіпі становить всього 430 нм. У порівнянні з 10-нанометровому чіпами очікується 50-відсоткове виграш не тільки в продуктивності, але і в енергоспоживанні. Це означає, що нинішні прогресивні 14-нанометрові чіпи будуть здаватися поруч з 7-нанометровим застарілими, повільними і гарячими "динозаврами".
